| 发明名称 | 曝光方法及装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种曝光装置，其更容易地进行在感光材料上形成二维图案的像时的各光束的成像位置的修正。该曝光装置将从光源(66)发出的光(Le)利用多个像素部(82)排列的空间光调制机构(80)进行空间光调制，并使上述空间光调制后的、与各像数部(82)对应的各光束(L1、L2...)分别利用第一成像光学系(51A)成像，然后利用第二成像光学系(51B)成像，从而在感光材料(30K)上形成二维图案的像，此时，利用第一成像位置修正部(40A)按每个光束单独地修正各光束利用第一成像光学系(51A)成像的成像位置，并且利用第二成像位置修正部(40B)按每个光束单独地修正各光束利用第二成像光学系(51B)成像的成像位置，从而使在上述感光材料(30K)上形成的二维图案的像与作为目的的二维图案一致。 | ||
| 申请公布号 | CN101107573A | 申请公布日期 | 2008.01.16 |
| 申请号 | CN200680003176.6 | 申请日期 | 2006.01.24 |
| 申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 尾崎多可雄 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01);H05K3/00(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 朱丹 |
| 主权项 | 1.一种曝光方法，其利用将多个根据规定的控制信号调制入射的光的像素部(82)二维状排列而成的空间光调制机构(80)，使从光源(66)发出的光(Le)进行空间光调制，使利用所述空间光调制机构(80)进行了空间光调制的、与各像素部(82)对应的各光束分别通过第一成像光学系(51A)而成像，并且在通过所述第一成像光学系(51A)成像的各光束的成像位置的附近，使该各光束单独地通过排列成二维状的多个微透镜(55a)，以使单独地通过了所述微透镜(55a)的各光束利用第二成像光学系(51B)在该感光材料(30K)上成像的方式，在该感光材料(30K)上形成二维图案的像，并在所述感光材料(30K)上使作为目的的二维图案曝光，所述曝光方法的特征在于，以使在所述感光材料(30K)上形成的所述二维图案的像与所述作为目的的二维图案一致的方式，按每个光束单独地控制各光束利用所述第一成像光学系(51A)及/或所述第二成像光学系(51B)成像的成像位置。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||