| 发明名称 | 使用两件式盖子保护模版的系统和方法 | ||
| 摘要 | 一种用于保护掩模不被空载的颗粒污染的系统和方法。它们包括提供一个固定在两件式盖子中的模版。该两件式盖子包括用于保护颗粒不受污染的可除去保护部分。该盖子可以保持在用于将盖子从大气部分向真空部分传送通过光刻系统的吊舱或者盒子内。在真空部分，在晶片上形成模版上的图案的曝光过程中移动该可除去的盖子。 | ||
| 申请公布号 | CN101105636A | 申请公布日期 | 2008.01.16 |
| 申请号 | CN200710102348.1 | 申请日期 | 2003.02.21 |
| 申请人 | ASML控股股份有限公司 | 发明人 | 圣地亚哥·E·德尔·普埃尔托;埃里克·R·卢普斯特拉;安德鲁·马萨尔;杜安·P·基什;阿卜杜拉·阿里汗;伍德罗·J·奥尔松;乔纳森·H·费罗斯 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);G03F1/00(2006.01);G03F1/14(2006.01);G03F9/00(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 王波波 |
| 主权项 | 1.一种方法，包括：(a)用一可拆卸颗粒盖子组件覆盖一模版的第一部分，以形成一种装置，该装置保护该模版的第一部分不受污染；在对该模版进行曝光之前，当该模版处于曝光位置时，该可拆卸颗粒盖子组件的一部分可移动离开该模版；(b)将该装置封闭在一盒子内，该盒子具有一承载部分和一能与该承载部分分开的罩，该盒子保护该模版不受污染；和(c)传送该盒子内的该装置。 | ||
| 地址 | 荷兰费尔德霍芬 | ||