处理基材的设备和方法

摘要

本发明公开一种用于向基材表面供应多种化学品或气体以清洁和干燥基材的设备。这种设备包括：带有卡盘的基材支撑单元，基材装载在该卡盘上；底部室，该底部室具有打开的顶部并用于围住该卡盘的周边；顶部室，该顶部室用于打开或关闭该底部室的顶部，使得在该基材与外部隔离时对该基材进行干燥处理；以及间接喷嘴，该间接喷嘴安装在该顶部室中并用于向该顶部室的中心喷射干燥流体，使得该干燥流体间接地喷射到该基材上。使用这种设备，可以提高基材干燥效率，抑制外部污染，并防止生成氧化物层。

主权项

1.一种基材处理设备，包括：带有卡盘的基材支撑单元，基材装载在所述卡盘上；底部室，所述底部室具有打开的顶部并用于围住所述卡盘的周边；顶部室，所述顶部室用于打开或关闭所述底部室的顶部，使得在所述基材与外部隔离时对所述基材进行干燥处理；以及间接喷嘴，所述间接喷嘴安装在所述顶部室中并用于向上喷射干燥流体，使得干燥流体间接地喷射到所述基材上。