| 发明名称 | 一种标定模 | ||
| 摘要 | 本实用新型涉及一种标定模，其特征在于：它包括一标定模本体，所述标定模本体除底面外的其它五个面，每个面都具有一定厚度的特征层，各所述特征层内部设置有组成一特征点集I的一组特征点，各所述特征层表面设置有组成特征点集II的另一组特征点，所述特征点集I的特征点可被磁共振系统中的磁共振成像设备成像，所述特征点集II的特征点可被磁共振系统中的跟踪系统识别。本实用新型在标定模本体内设置了能够被磁共振系统成像设备成像并分析得到的特征点集I，在标定模本体表面设置了能够通过磁共振系统跟踪系统识别测量得到特征点集II，且特征点集I与特征点集II之间的几何关系确定，因此只要知道其中一个特征点集中特征点的坐标，就能推算出另一特征点集中特征点的坐标，从而可以用于系统不同坐标之间的标定。 | ||
| 申请公布号 | CN201005698Y | 申请公布日期 | 2008.01.16 |
| 申请号 | CN200720104003.5 | 申请日期 | 2007.03.28 |
| 申请人 | 新奥博为技术有限公司 | 发明人 | 韦巍;赵磊;刘华根;章炜炜 |
| 分类号 | A61B5/055(2006.01);G01R33/20(2006.01) | 主分类号 | A61B5/055(2006.01) |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 徐宁 |
| 主权项 | 1.一种标定模，其特征在于：它包括一标定模本体，所述标定模本体除底面外的其它五个面，每个面都具有一定厚度的特征层，各所述特征层内部设置有组成一特征点集I的一组特征点，各所述特征层表面设置有组成特征点集II的另一组特征点，所述特征点集I的特征点可被磁共振系统中的磁共振成像设备成像，所述特征点集II的特征点可被磁共振系统中的跟踪系统识别。 | ||
| 地址 | 065001河北省廊坊市廊坊经济技术开发区华祥路31号 | ||