VERFAHREN UND EINRICHTUNG ZUM LASERÄTZEN EINER STRUKTUR DURCH ZUNÄCHST BESTRAHLEN VON BEREICHEN DER STRUKTUR ZUR ÄNDERUNG DER KRISTALLINITÄT

摘要

An etching method includes applying a first electromagnetic radiation to an area of structure, thereby altering a characteristic of the structure in the area, and applying a second electromagnetic radiation to the structure, the second electromagnetic radiation configured to selectively ablate the structure based on the characteristic.