| 发明名称 |
DURCHSATZVERBESSERUNG FÜR EINZEL-WAFER-REAKTOR |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AT382023(T) |
申请公布日期 |
2008.01.15 |
| 申请号 |
AT20010928614T |
申请日期 |
2001.04.18 |
| 申请人 |
ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC. |
发明人 |
TANGUAY, MICHAEL |
| 分类号 |
B65G1/00;B65G49/07;C23C14/56;C23C16/00;C23C16/54;C23F1/02;H01L21/673;H01L21/677;H01L21/683;H01L21/687 |
主分类号 |
B65G1/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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