发明名称 雷射二极体之主动层结构
摘要 一种雷射二极体之主动层结构,该主动层内形成有量子井层,而该量子井层间形成有量子位障层,该量子位障层引入有张应力型之磷化铟镓层(GaInP layer),藉此,以阻挡电子与电洞在主动层的横向流动,改善电子与电洞于雷射二极体之量子位障层发生复合,以降低载子漏电流及避免张应力型之磷化铟镓层补偿压应力之量子井,藉以维持量子井层之压应力者。
申请公布号 TWI292646 申请公布日期 2008.01.11
申请号 TW095114491 申请日期 2006.04.24
申请人 雷伯薰 发明人 雷伯薰;杨奇达;黄润杰
分类号 H01S5/343(2006.01) 主分类号 H01S5/343(2006.01)
代理机构 代理人 蔺超群 台北市大安区罗斯福路2段95号25楼
主权项 1.一种雷射二极体之主动层结构,该主动层内形成 有量子井层,而该量子井层间形成有量子位障层, 该量子位障层引入有张应力型之磷化铟镓层(GaInP layer),以使该主动层由底层至顶层形成有:一量子 井层、一量子位障层、一磷化铟镓层、一量子位 障层、一量子井层、一量子位障层、一磷化铟镓 层、一量子位障层、一量子井层、一量子位障层 、一磷化铟镓层、一量子位障层、一量子井层、 一量子位障层、一磷化铟镓层、一量子位障层及 一量子井层; 藉此,以阻挡电子与电洞在主动层的横向流动,改 善电子与电洞于雷射二极体之量子位障层发生复 合,以降低载子漏电流及避免张应力型之磷化铟镓 层补偿压应力之量子井,藉以维持量子井层之压应 力者。 2.如申请专利范围第1项所述之雷射二极体之主动 层结构,其中,该量子位障层为无应力型之磷砷化 铟镓量子位障层(GaInAsP量子位障层)者。 3.如申请专利范围第1项所述之雷射二极体之主动 层结构,其中,该量子井层为压应力型之磷砷化铟 镓量子井层(GaInAsP量子井层)者。 图式简单说明: 第1图系为本发明雷射二极体主动层的平面结构图 。 第2图系为本发明雷射二极体主动层的导电带能带 示意图。 第3图系为本发明雷射二极体的立体结构图。 第4图系为本发明雷射二极体的平面结构图。 第5图系为传统雷射二极体主动层的平面结构图。 第6图系为传统雷射二极体主动层的导电带能带示 意图。
地址 嘉义市博东路43巷23号
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