| 主权项 |
1.一显示装置,包含一第一基质,其备有一用于像素 之电导体图案,其特征在于为了使导体图案与用于 容纳该显示装置之该装置的至少一部份对齐,该第 一基质的第一边至少完成有一第一标志(marker),该 第一基质的第二边至少完成有一第二标志(marker), 并且该第一基质的第一边与该第一基质的第二边 相交。 2.如申请专利范围第1项之显示装置,其特征在于该 标志(marker)可为一凹槽。 3.如申请专利范围第2项之显示装置,其特征在于该 第一基质实质上系为长方形。 4.如申请专利范围第2项之显示装置,其特征在于该 凹槽可为一U-形,一V-形,一半圆形或一梯形。 5.如申请专利范围第1项之显示装置,其特征在于容 纳该显示装置之该装置更在该第一基质之该等标 志(marker)处具有对齐元件。 6.如申请专利范围第5项之显示装置,其特征在于容 纳该显示装置之该装置在该第一基质之该等凹槽 处具有一相对元件。 7.一种制造至少一显示装置的方法,包含有: 将一始初基质施加至少一基质处理,使该始初基质 系完成一图案而能成为一显示装置的至少一部份; 将此始初基质分割成复数个基质而可成为一显示 装置的至少一部份, 该始初基质上之该图案可为一对齐记号(mark),且该 始初基质的第一边具有一第一标志(marker),该始初 基质的第二边具有一第二标志(marker),且该始初基 质的第一边与第二边相交。 8.如申请专利范围第7项之方法,其特征在于该图案 系被用为一对齐记号(mark)。 9.如申请专利范围第7项之方法,其特征在于该始初 基质的该第一标志(marker)可为一凹槽。 10.如申请专利范围第7项之方法,其特征在于该始 初基质实质上系为长方形,且其中该始初基质的该 第一边、第二边上之该第一标志(marker)、第二标 志(marker)可为凹槽。 11.如申请专利范围第9项之方法,其特征在于至少 该第一标志(marker)或该第二标志(marker)可为用来与 容纳该显示装置之装置对齐的一对齐记号(mark)。 12.如申请专利范围第9项之方法,其特征在于至少 该第一标志(marker)或该第二标志(marker)可为在制造 该显示装置之一步骤中之一对齐记号(mark)。 13.一显示器,用于一完成至少二对齐构件(member)之 装置,该显示器包含一完成一图案之基质,且该基 质具备至少有两边形成一交角,该基质之两边,在 靠近交角处系各有一凹槽,该凹槽系分别紧靠该装 置之构件,以在该装置中对齐该显示器。 图式简单说明: 图1系为穿过根据本发明之一装置的一部份之一平 面的一个轮廓平面示图; 图2系为图1中之线II-II上所取得之一横剖面; 图3系为图1中之线III-III上所取得之一横剖面,而 图4系为根据本发明之一显示装置的一部份之一平 面的一个平面示图,以及 图5显示了一个更进一步的变化。 |
