发明名称 可靠的相对接触体结构及其制备技术
摘要 具有多个接触表面的开关结构,所述接触表面可以互相接触。接触表面中的一个或多个可以用弹性材料,比如金刚石,来涂覆。
申请公布号 CN100361253C 申请公布日期 2008.01.09
申请号 CN03824828.X 申请日期 2003.08.28
申请人 英特尔公司 发明人 马青;克拉马哈提·拉维;瓦卢里·拉奥
分类号 H01H59/00(2006.01) 主分类号 H01H59/00(2006.01)
代理机构 北京嘉和天工知识产权代理事务所 代理人 严慎
主权项 1.一种半导体接触体装置,包括:基底结构;在所述基底结构上形成的接触体区域;在所述接触体区域上形成的保护涂覆;在所述保护涂覆和所述接触体区域之间形成的金属附着层;在所述基底结构上形成的致动装置;在所述基底结构上形成的臂结构;以及在所述臂结构上形成第二接触体区域,并且所述第二接触体区域与所述接触体区域相对。
地址 美国加利福尼亚州
您可能感兴趣的专利