光学系统设计方法

摘要

一种设计光学系统的方法，具有：初始值设置步骤(S1)，用于设置在没有考虑制造误差的设计状态下的光学参数；制造状态制备/更新步骤(S2)，用于通过将制造误差添加到设计状态下的光学参数中来制备参数作为制造状态下的光学参数，或者用于更新现有制造状态下的光学参数的制造误差；评估函数制备步骤(S3)，用于制备评估函数；以及优化执行步骤(S4)，用于优化评估函数并获得最佳光学参数。

主权项

1、一种使用评估函数的光学系统设计方法，特征在于所述设计方法包括：初始值设置步骤，该步骤设定在没有考虑制造误差的设计状态下的光学参数，制造状态制备/更新步骤，其中通过将制造误差加入所述设计状态下的光学参数中来制备制造状态下的光学参数，或者更新现有制造状态下的光学参数的制造误差，制备评估函数的评估函数制备步骤，以及优化执行步骤，该步骤通过对所述评估函数进行优化来确定最佳光学参数，其中在所述制造状态制备/更新步骤中，根据按照用于获取制造误差量的必要条件而预先建立的误差量表，获得要赋予的制造误差量，将所述误差量赋予所述设计状态下的光学参数，由此新制备所述制造状态下的光学参数，或者根据所述设计状态下的光学参数的变化，更新已对现有制造状态下的光学参数赋予的误差量的值。