一种磁控溅射半球面薄膜的制备方法

摘要

一种磁控溅射半球面薄膜的制备方法，它涉及半球面薄膜的制备方法。它解决了现有镀半球面薄膜的装置中磁控靶固定不动，加热台旋转的同时进行摆动，需要专用夹具装夹待镀工件的问题。本发明的方法为：一，选用靶材，并将衬底材料置于旋转加热台上，整个装置位于真空仓内；二，密封真空仓，抽真空，通入Ar气，电离清洗；三，启动加热灯组，加热并保温；四，向真空仓内通入启辉气体，施加溅射功率，预溅射，控制气体流量，在衬底上加负偏压；五，采用两台步进电机分别控制旋转加热台和靶的运行轨迹来镀膜；六，待真空仓内温度降至室温时即制得半球形薄膜。本发明的待镀工件装夹方便，使镀膜过程稳定，所制备的半球形薄膜均匀，靶材的利用率高。

主权项

1、一种磁控溅射半球面薄膜的制备方法，其特征在于该方法的步骤如下：步骤一、选取镀膜材料作为靶材，并将衬底置于旋转加热台上，该加热台位于真空仓内；步骤二、密封真空仓，启动真空获得系统，真空仓内真空度达到1.0×10-4～9.9×10-4帕，通入Ar气，真空仓内压强为3～5帕时，启动电离电源，对衬底表面进行电离清洗，电离清洗3～5分钟；步骤三、电离清洗结束后，启动加热灯组，加热到沉积薄膜所需要的温度，加热区间为25～750℃，并在上述温度下保温10分钟～1小时；步骤四、向真空仓内通入启辉气体，真空仓内气体压强在3～5帕时启辉，施加溅射功率，溅射功率为50～400瓦，预溅射3～10分钟，气体流量控制在10sccm～90sccm，真空仓内气体压强降至0.1～2帕，在衬底上加0～600伏的负偏压，移开挡板；步骤五、采用步进电机来连续控制旋转加热台的转速，转速控制在15转/分钟内变化，同时用另一步进电机来控制加热台上方靶的运行轨迹，使靶沿着衬底弧线方向做步长小于5度的间歇运动来控制向衬底表面镀膜；步骤六、步骤五完成后，待真空仓内温度降至室温时，即制得半球形的薄膜。