发明名称 |
衬底加工设备和衬底加工方法 |
摘要 |
本发明提供了一种衬底加工设备,该设备可通过利用电解加工方法加工衬底,同时把在CMP加工上的负载降低到最小可能的程度。本发明的衬底加工设备包括:电解加工单元(36),该单元对具有形成在所述表面上的待加工膜的衬底表面电解地去除,所述单元包括接触该衬底W所述表面的馈电区段(373);倾斜-刻蚀单元(48),该单元用于刻蚀掉这样的部分,该部分为该衬底的在已经与在该电解加工单元(36)中馈电区段(373)接触部分上的保持未加工的待加工膜;用于化学和机械地对衬底表面进行抛光的化学机械抛光单元(34)。 |
申请公布号 |
CN101101861A |
申请公布日期 |
2008.01.09 |
申请号 |
CN200710136701.8 |
申请日期 |
2003.05.16 |
申请人 |
株式会社荏原制作所 |
发明人 |
白樫充彦;安田穗积;粂川正行;小畠严贵 |
分类号 |
H01L21/00(2006.01);H01L21/02(2006.01);H01L21/321(2006.01);H01L21/67(2006.01);H01L21/768(2006.01);C25F7/00(2006.01);C25F3/00(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/00(2006.01) |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 |
代理人 |
刘兴鹏;邵伟 |
主权项 |
1.一种衬底加工设备,包括:用于保持衬底的机头区段;对衬底表面电镀以形成电镀金属膜的镀膜区段;用于在镀膜之后清洁该衬底的清洁区段;以及电解加工区段,该区段用于这样对在该衬底上至少所述金属膜进行电解去除加工,即通过使离子交换剂存在于清洁后的该衬底和电极之间、并在液体存在的情况下把电压施加在该衬底和该电极之间;其中该机头区段能够在该镀膜区段、该清洁区段和该电解区段之间移动,同时保持该衬底。 |
地址 |
日本东京 |