发明名称 衬底加工设备和衬底加工方法
摘要 本发明提供了一种衬底加工设备,该设备可通过利用电解加工方法加工衬底,同时把在CMP加工上的负载降低到最小可能的程度。本发明的衬底加工设备包括:电解加工单元(36),该单元对具有形成在所述表面上的待加工膜的衬底表面电解地去除,所述单元包括接触该衬底W所述表面的馈电区段(373);倾斜-刻蚀单元(48),该单元用于刻蚀掉这样的部分,该部分为该衬底的在已经与在该电解加工单元(36)中馈电区段(373)接触部分上的保持未加工的待加工膜;用于化学和机械地对衬底表面进行抛光的化学机械抛光单元(34)。
申请公布号 CN101101861A 申请公布日期 2008.01.09
申请号 CN200710136701.8 申请日期 2003.05.16
申请人 株式会社荏原制作所 发明人 白樫充彦;安田穗积;粂川正行;小畠严贵
分类号 H01L21/00(2006.01);H01L21/02(2006.01);H01L21/321(2006.01);H01L21/67(2006.01);H01L21/768(2006.01);C25F7/00(2006.01);C25F3/00(2006.01) 主分类号 H01L21/00(2006.01)
代理机构 永新专利商标代理有限公司 代理人 刘兴鹏;邵伟
主权项 1.一种衬底加工设备,包括:用于保持衬底的机头区段;对衬底表面电镀以形成电镀金属膜的镀膜区段;用于在镀膜之后清洁该衬底的清洁区段;以及电解加工区段,该区段用于这样对在该衬底上至少所述金属膜进行电解去除加工,即通过使离子交换剂存在于清洁后的该衬底和电极之间、并在液体存在的情况下把电压施加在该衬底和该电极之间;其中该机头区段能够在该镀膜区段、该清洁区段和该电解区段之间移动,同时保持该衬底。
地址 日本东京