发明名称 一种电致发光二极管的制备方法
摘要 本发明公开了一种电致发光二极管的制备方法,先在衬底上生长GaN缓冲层,然后生长掺有Eu、Er、Tm三种稀土元素中任意两种或三种的GaN薄膜,最后用掺锡氧化铟制作透明电极。通过分子束外延、金属有机化学气相沉积方法、离子注入方法、光刻技术实现将Eu、Er、Tm三种稀土元素中的任意两种掺杂到在GaN薄膜中或者将这三种稀土元素同时掺杂到GaN薄膜中,当改变掺杂稀土元素的浓度比和外加电压时,就可以得到不同颜色的光、甚至白光。
申请公布号 CN101101947A 申请公布日期 2008.01.09
申请号 CN200710052646.4 申请日期 2007.07.05
申请人 武汉大学 发明人 刘昌;张蕾;梅菲;刘福庆
分类号 H01L33/00(2006.01);H01L27/15(2006.01);H01L21/84(2006.01) 主分类号 H01L33/00(2006.01)
代理机构 武汉华旭知识产权事务所 代理人 刘荣
主权项 1.一种电致发光二极管的制备方法,其特征在于包括以下步骤:先在衬底上生长GaN缓冲层,然后生长掺有Eu、Er、Tm三种稀土元素中任意两种或三种的GaN薄膜,最后用掺锡氧化铟制作透明电极后形成电致发光二极管。
地址 430072湖北省武汉市武昌珞珈山
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