发明名称 |
一种电致发光二极管的制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种电致发光二极管的制备方法,先在衬底上生长GaN缓冲层,然后生长掺有Eu、Er、Tm三种稀土元素中任意两种或三种的GaN薄膜,最后用掺锡氧化铟制作透明电极。通过分子束外延、金属有机化学气相沉积方法、离子注入方法、光刻技术实现将Eu、Er、Tm三种稀土元素中的任意两种掺杂到在GaN薄膜中或者将这三种稀土元素同时掺杂到GaN薄膜中,当改变掺杂稀土元素的浓度比和外加电压时,就可以得到不同颜色的光、甚至白光。 |
申请公布号 |
CN101101947A |
申请公布日期 |
2008.01.09 |
申请号 |
CN200710052646.4 |
申请日期 |
2007.07.05 |
申请人 |
武汉大学 |
发明人 |
刘昌;张蕾;梅菲;刘福庆 |
分类号 |
H01L33/00(2006.01);H01L27/15(2006.01);H01L21/84(2006.01) |
主分类号 |
H01L33/00(2006.01) |
代理机构 |
武汉华旭知识产权事务所 |
代理人 |
刘荣 |
主权项 |
1.一种电致发光二极管的制备方法,其特征在于包括以下步骤:先在衬底上生长GaN缓冲层,然后生长掺有Eu、Er、Tm三种稀土元素中任意两种或三种的GaN薄膜,最后用掺锡氧化铟制作透明电极后形成电致发光二极管。 |
地址 |
430072湖北省武汉市武昌珞珈山 |