发明名称 DERIVADOS DE INDOL-2-IL-AMIDA 1,5-SUSTITUIDA. PROCESOS DE OBTENCION Y COMPOSICIONES FARMACEUTICAS
摘要 Reivindicacion 1: Compuestos de la formula general (1), en la que R1 se elige entre el grupo formado por alquilo inferior, alquenilo inferior, alquinilo inferior, cicloalquilo, cicloalquilalquilo inferior, hidroxialquilo inferior, alcoxialquilo inferior, alquilsulfanilalquilo inferior, dialquilaminoalquilo inferior, dialquilcarbamoilalquilo inferior, fenilo sin sustituir o sustituido por uno o dos grupos elegidos con independencia entre sí entre alquilo inferior, halogenoalcoxi inferior e hidroxialquilo inferior, fenilalquilo inferior, cuyo anillo fenilo puede estar sin sustituir o sustituido por uno o dos grupos elegidos con independencia entre sí entre alquilo inferior, halogeno, alcoxi inferior e hidroxialquilo inferior, heteroarilalquilo inferior, cuyo anillo heteroarilo puede estar sin sustituir o sustituido por uno o dos grupos elegidos con independencia entre sí entre alquilo inferior, halogeno, alcoxi inferior e hidroxialquilo inferior y heterociclilalquilo inferior, cuyo anillo heterociclilo puede estar sin sustituir o sustituido por uno o dos grupos alquilo inferior; R2 se elige entre el grupo formado por hidrogeno, alquilo inferior, alquenilo inferior, alquinilo inferior, cicloalquilo, cicloalquilalquilo inferior, hidroxialquilo inferior, alcoxialquilo inferior, alquilsulfanilalquilo inferior, dialquilaminoalquilo inferior, dialquilcarbamoilalquilo inferior, fenilo sin sustituir o sustituido por uno o dos grupos elegidos con independencia entre sí entre alquilo inferior, halogenoalcoxi inferior e hidroxialquilo inferior, fenilalquilo inferior, cuyo anillo fenilo puede estar sin sustituir o sustituido por uno o dos grupos elegidos con independencia entre sí entre alquilo inferior, halogeno, alcoxi inferior e hidroxialquilo inferior, heteroarilalquilo inferior, cuyo anillo heteroarilo puede estar sin sustituir o sustituido por uno o dos grupos elegidos con independencia entre sí entre alquilo inferior, halogeno, alcoxi inferior e hidroxialquilo inferior y heterociclilalquilo inferior, cuyo anillo heterociclilo puede estar sin sustituir o sustituido por uno o dos grupos alquilo inferior; o R1 y R2 junto al átomo de nitrogeno al que están unidos forman un anillo heterocíclico saturado o parcialmente insaturado, de 4, 5, 6 o 7 eslabones, que contiene opcionalmente otro heteroátomo elegido entre nitrogeno, oxígeno, azufre, dicho anillo heterocíclico saturado o parcialmente insaturado está sin sustituir o sustituido por uno, dos o tres grupos elegidos con independencia entre sí entre alquilo inferior, halogeno, halogenoalquilo, hidroxi, hidroxialquilo inferior, alcoxi inferior, oxo, fenilo, bencilo, piridilo y carbamoilo, o está condensado con un anillo fenilo, dicho anillo fenilo está sin sustituir o sustituido por uno, dos o tres grupos elegidos con independencia entre sí entre alquilo inferior, alcoxi inferior y halogeno; R3 se elige entre el grupo formado por hidroxialquilo inferior, cianoalquilo inferior, alcoxicarbonilo inferior, fenilsulfonilo, cuyo anillo fenilo puede estar sin sustituir o sustituido por uno o dos grupos elegidos con independencia entre sí entre alquilo inferior, halogeno, ciano, halogenoalquilo inferior, alcoxi inferior, halogenoalcoxi inferior e hidroxialquilo inferior; fenilo sin sustituir o sustituido por uno o dos grupos elegidos con independencia entre sí entre alquilo inferior, halogeno, halogenoalquilo inferior, ciano, alcoxi inferior, halogenoalcoxi inferior e hidroxialquilo inferior; fenilalquilo inferior, cuyo anillo fenilo puede estar sin sustituir o sustituido por uno o dos grupos elegidos con independencia entre sí entre alquilo inferior, halogeno, halogenoalquilo inferior, ciano, alcoxi inferior, halogenoalcoxi inferior e hidroxialquilo inferior; y heteroarilo sin sustituir o sustituido con uno o dos grupos elegidos con independencia entre sí entre alquilo inferior, alcoxi inferior, halogeno, halogenoalquilo inferior, halogenoalcoxi inferior, morfolino y ciano; R4 es hidrogeno o halogeno; G es un resto elegido entre el grupo de formulas (2); en los que m es el numero 0, 1 o 2; R5 se elige entre alquilo inferior, halogenoalquilo inferior, cicloalquilo, halogenocicloalquilo, cicloalquilalquilo inferior y fenilalquilo inferior; n es el numero 0, 1 o 2; R6 es alquilo inferior; p es el numero 0, 1 o 2; q es el numero 0, 1 o 2; A se elige entre CR12R12', O y S; R7, R7', R8, R8', R9, R9', R12 y R12'con independencia entre sí se eligen entre el grupo formado por hidrogeno, alquilo inferior, hidroxi, halogeno y dialquilamino, o R8 y R12 forman, juntos, un doble enlace; R10 es alquilo inferior; R11 es alquilo C3-6; y las sales farmacéuticamente aceptables de los mismos.
申请公布号 AR057989(A1) 申请公布日期 2008.01.09
申请号 AR2006P105248 申请日期 2006.11.28
申请人 F. HOFFMANN-LA ROCHE AG 发明人
分类号 (IPC1-7):C07D401/12;C07D401/14;C07D401/04;C07D409/14;A61K31/404;A61P3/10 主分类号 (IPC1-7):C07D401/12
代理机构 代理人
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