Plasmaprozesssystem mit einer elektrostatischen Probenhalteanordnung und Verfahren zur Entkopplung einer DC-Spannungsquelle

摘要

Bei einem Plasmaprozesssystem (1) mit einem HF-Leistungsgenerator (11), der einer Plasmakammer (9) eine HF-Leistung zuführt, und einer eine Elektrode (8), eine DC-Spannungsquelle (2) und eine in der elektrischen Verbindung zwischen Elektrode und DC-Spannungsquelle (2) angeordnete Filtereinrichtung (7) umfassenden elektrostatischen Probenhalteanordnung weist die Filtereinrichtung (7) zumindest ein dissipatives Bauteil (R2) auf. Der Einfluss von unerwünschten Schwingungen auf die DC-Spannungsquelle (2) kann dadurch verringert werden.