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发明名称 Verfahren zum Bilden eines Feldoxidfilms in einem Halbleiterelement
摘要
申请公布号 DE19649445(B4) 申请公布日期 2008.01.03
申请号 DE19961049445 申请日期 1996.11.28
申请人 HYUNDAI ELECTRONICS INDUSTRIES CO. LTD. 发明人 KWON, SUNG KU;LEE, SEUNG MOO
分类号 H01L21/76;H01L21/762;H01L21/3105 主分类号 H01L21/76
代理机构 代理人
主权项
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