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发明名称 Verfahren zur Herstellung eines Sputtertargets
摘要
申请公布号 DE60034513(T2) 申请公布日期 2008.01.03
申请号 DE20006034513T 申请日期 2000.07.05
申请人 HITACHI METALS LTD. 发明人 HAN, GANG;MURATA, HIDEO;NAKAMURA, HIDEKI
分类号 B22F1/00;B22F9/14;B22F3/105;B22F3/14;B22F3/15;C22C1/04;C23C14/34 主分类号 B22F1/00
代理机构 代理人
主权项
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