发明名称 |
液晶显示器件的制造方法 |
摘要 |
本发明公开了一种液晶显示器件的制造方法,包括:提供具有像素部的第一基板;在其中形成有栅极的第一基板上顺序层叠栅绝缘层、半导体层和第一导电层;用半色调掩模在第一导电层上形成第一PR图案,该第一PR图案在将要形成晶体管的沟道区域上构图为相对较薄;用第一PR图案对第一导电层进行构图;通过在第一PR图案上进行第一灰化工序来形成与第一导电层外围对齐的第二PR图案;使用第二PR图案对半导体层进行构图;使用第二PR图案形成源极/漏极;在第一基板上形成钝化层和像素电极;将第一基板粘附到第二基板;在第一基板和第二基板之间形成液晶层。 |
申请公布号 |
CN101097381A |
申请公布日期 |
2008.01.02 |
申请号 |
CN200710126009.7 |
申请日期 |
2007.06.29 |
申请人 |
LG.菲利浦LCD株式会社 |
发明人 |
金雄植;李旺宣 |
分类号 |
G02F1/1362(2006.01);G03F7/00(2006.01);H01L21/00(2006.01) |
主分类号 |
G02F1/1362(2006.01) |
代理机构 |
北京律诚同业知识产权代理有限公司 |
代理人 |
徐金国;梁挥 |
主权项 |
1.一种液晶显示器件的制造方法,包括:提供具有像素部的第一基板;在其中构图有栅极的第一基板上顺序层叠栅绝缘层、半导体层、导电层和光刻胶薄膜;通过使用半色调掩模将光刻胶薄膜构图来形成光刻胶薄膜图案;使用光刻胶薄膜图案作为掩模将导电层和半导体层构图;通过第一灰化工序部分地去除光刻胶薄膜图案;通过使用剩余的光刻胶薄膜图案作为掩模将导电层构图以形成源极/漏极;在第一基板上形成钝化层和像素电极;将第一基板粘附到第二基板;以及在第一基板和第二基板之间形成液晶层。 |
地址 |
韩国首尔 |