发明名称 磁性记录元件和磁性存储器
摘要 根据本发明的一个示例的磁性记录元件包括:磁性自由层(11),该层的磁化随着流过薄膜的电流方向是可变的,并且该层的磁化的易磁化轴的方向与薄膜平面垂直;磁性被钉扎层(12),该层的磁化被固定在与薄膜平面垂直的方向上;以及磁性自由层(11)和磁性被钉扎层(12)之间的非磁性阻挡层(13)。在磁性自由层(11)中,饱和磁化强度Ms(emu/cc)和各向异性磁场Han(Oe)之间的关系满足Han>12.57Ms,以及Han<1.2E7Ms<SUP>-1</SUP>+12.57Ms。
申请公布号 CN101097987A 申请公布日期 2008.01.02
申请号 CN200710137982.9 申请日期 2007.03.26
申请人 株式会社东芝 发明人 中村志保;森濑博史
分类号 H01L43/08(2006.01);H01L27/22(2006.01);G11C11/16(2006.01);H01F10/32(2006.01) 主分类号 H01L43/08(2006.01)
代理机构 北京市中咨律师事务所 代理人 杨晓光;李峥
主权项 1、一种磁性记录元件,其特征在于包括:磁性自由层,该层的磁化根据通过其中的电流的方向是可变的,并且该层的磁化的易磁化轴的方向与薄膜平面垂直;磁性被钉扎层,该层的磁化被固定在与所述薄膜平面垂直的方向上;和所述磁性自由层和所述磁性被钉扎层之间的非磁性阻挡层,其中所述磁性自由层具有饱和磁化强度Ms(emu/cc)和各向异性磁场Han(Oe)之间的关系满足Han>12.57Ms,以及Han<1.2E7Ms-1+12.57Ms的特性。
地址 日本东京都