曝光装置、曝光方法及元件制造方法

摘要

本发明之曝光装置（EＸ），具备：光学系统（PL），具有第1曝光用光（EL1）与第2曝光用光（EL2）射入之光学元件（20），将来自光学元件之第1曝光用与第2曝光用光照设至第1曝光区域（AR1）与第2曝光区域（AR2）；以及检测装置（8），用以检测自光学元件射向与朝向第1及第2曝光区域不同方向之第1曝光用光及第2曝光用光中至少一者。