清除半导体装置及LCD制造设备之反应室的排气部及真空泵浦之装置APPARATUS FOR CLEANING EXHAUST PART AND VACUUM PUMP OF REACTION CHAMBER FOR SEMICONDUCTOR DEVICE AND LCD MANUFACTURING EQUIPMENT

摘要

揭露清除反应室的排气管线之装置，上述装置包括电浆反应室，氟或氯气体自气体供应单元注入上述电浆反应室，上述氟或氯气体作为清除排气管线中的固体沈积物之氟或氯自由基的来源，以及电浆源供应机构以将注入到每个反应室中氟或氯气体，经由电浆的应用而转化成氟或氯自由基，上述电浆源供应机构包括一RF产生器，环绕在对应反应室的天线，以将氟或氯气体在接收到RF能量后转化成氟或氯自由基，以选择RF供应的继电器开关和每个电浆反应室连接，以及控制器以控制上述RF能量，上述自由基供应至每一个排出管线，以清除其中累积的固体沈积。