| 摘要 |
本发明揭示一种在基板表面上形成自组合图案的方法。首先，将嵌段共聚物层涂覆于基板上；嵌段共聚物层包含具有二或多个不互溶聚合嵌段成分的嵌段共聚物；基板包含其中具有沟渠的基板表面。明确地说，沟渠包括至少一窄区域，其两侧为两个宽区域，及其中沟渠具有宽度变化超过50％。接着执行退火以在嵌段共聚物层中的二或多个不互溶聚合嵌段成分间实行相位分离，藉此形成以重复结构单元所定义的周期性图案。明确地说，在沟渠之窄区域的周期性图案系预定方向对齐且实质上没有缺陷。本发明亦揭示以上述方法形成的嵌段共聚物薄膜以及包含此类嵌段共聚物薄膜的半导体结构。 |
