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发明名称
补偿亮度之先进微影制程系统与方法
摘要
本发明为一微影系统。此微影系统具有一光源用以提供能量;一影像系统用以导引该能量至一基材以于其上形成一预先设定之影像,而该影像系统用以定义一光学轴;以及一开口装置用以与该影像系统共用作用,该开口装置具有沿着不平行该光学轴之一放射状轴线所定义之复数个穿透区,而每一个穿透区可用以穿透可调整强度之能量。
申请公布号
TW200801830
申请公布日期
2008.01.01
申请号
TW096103587
申请日期
2007.01.31
申请人
台湾积体电路制造股份有限公司
发明人
张世明;王文娟;金持正;吕启纶;秦圣基;谢弘璋
分类号
G03F7/20(2006.01);G03F7/00(2006.01);H01L21/027(2006.01)
主分类号
G03F7/20(2006.01)
代理机构
代理人
蔡坤财;李世章
主权项
地址
新竹市新竹科学工业园区力行六路8号
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