光罩与曝光方法

摘要

一种适用于微影制程的光罩，光罩至少包括基板、至少一个图案区与多个对准标记。其中，图案区位于基板上，且至少其中之一个图案区之图案区中心不与基板之机板中心重叠。对准标记位于每一个图案区的周围之机板上，且其中至少四个对准标记包围一个图案区。