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经营范围
发明名称
半导体层、形成半导体之制程以及半导体发光装置
摘要
一种含有 Ⅲ-Ⅴ族半导体化合物作为构成之半导体层,其可由一般式子表示:A1xGayINzN,其中在x+y+z=1的条件下,x 代表满足情况 0≦x<1之数字,y 代表满足情况 0<y<1之数字,z 代表满足情况 0<z<1之数字。此半导体层利用雷射辅助有机金属气相磊晶技术形成。一种半导体发光元件,包含半导体层并可被构成作为半导体雷射或发光二极体。
申请公布号
TW200802551
申请公布日期
2008.01.01
申请号
TW096111265
申请日期
2007.03.30
申请人
富士软片股份有限公司
发明人
浅野英树
分类号
H01L21/205(2006.01);H01L33/00(2006.01);H01S5/34(2006.01)
主分类号
H01L21/205(2006.01)
代理机构
代理人
何金涂;何秋远
主权项
地址
日本
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