发明名称 | X光曝光机 | ||
摘要 | 一种X光曝光机,包括一可控制局部发光之X光背光源以及一液晶显示面板。液晶显示面板配置于可控制局部发光之X光背光源外侧。可控制局部发光之X光背光源可受到控制,使其发光表面之局部区域发出X光。藉由控制液晶显示面板的画素,X光通过液晶显示面板的强度会有所变化。根据上述,本发明提出一种可对特定区域进行曝光且曝光解析度较佳的X光曝光机。 | ||
申请公布号 | TW200801826 | 申请公布日期 | 2008.01.01 |
申请号 | TW095122509 | 申请日期 | 2006.06.22 |
申请人 | 东元电机股份有限公司 | 发明人 | 郑正元;詹德凤;郑奎文 |
分类号 | G03F7/20(2006.01);G03B42/02(2006.01);G02F1/13(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 谢佩玲 | |
主权项 | |||
地址 | 台北市中山区松江路156之2号 |