发明名称 X光曝光机
摘要 一种X光曝光机,包括一可控制局部发光之X光背光源以及一液晶显示面板。液晶显示面板配置于可控制局部发光之X光背光源外侧。可控制局部发光之X光背光源可受到控制,使其发光表面之局部区域发出X光。藉由控制液晶显示面板的画素,X光通过液晶显示面板的强度会有所变化。根据上述,本发明提出一种可对特定区域进行曝光且曝光解析度较佳的X光曝光机。
申请公布号 TW200801826 申请公布日期 2008.01.01
申请号 TW095122509 申请日期 2006.06.22
申请人 东元电机股份有限公司 发明人 郑正元;詹德凤;郑奎文
分类号 G03F7/20(2006.01);G03B42/02(2006.01);G02F1/13(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 代理人 谢佩玲
主权项
地址 台北市中山区松江路156之2号