图型之形成方法及使用其之有机薄膜形成用组成物

摘要

本发明之图型形成方法，系具有：（1）于基板上形成下层膜之步骤，该步骤系含有（C）藉辐射线之照射产生酸之感辐射线性酸产生剂或（D）藉辐射线之照射产生硷之感辐射线性硷产生剂；（2）形成曝光下层膜部分之步骤，该曝光下层膜部分系于下层膜介由具有特定之图型的光罩而照射辐射线以使下层膜曝光，于特定之图型被选择性曝光；（3）于下层膜上形成（E）有机薄膜，而使该曝光下层膜部分、与于该曝光下层膜部分上所形成之有机薄膜化学性结合之步骤；（4）除去于下层膜之中的曝光下层膜部分以外之部分上所形成之有机薄膜。