基板处理装置、基板处理方法、基板处理程式及记录该程式之电脑可读取的记录媒体

摘要

图案形成装置 1 系具备：检查装置 400，其系测定检查在显像处理后形成于基板 W 的阻剂图案的侧壁角度 SWA；控制部 500，其系根据上述显像处理后的阻剂图案的侧壁角度 SWA 的目标值与上述检查装置 400 之侧壁角度SWA 的检查结果的差分，以上述显像处理后的侧壁角度 SWA 能够近似于上述目标值之方式，进行上述第一加热处理71～74或上述第二加热处理84～89的处理条件的设定。