灰阶罩幕之制造方法及灰阶罩幕

摘要

本发明所提供的灰阶罩幕及其制造方法，系经提高非装置图案区域中所形成标记的对比，且可轻易执行检测。本发明解决手段系形成装置图案，其系具有遮光部、透光部及半透光部；与标记图案，其系使用于对位，如此所成的灰阶罩幕之制造方法，包括有以下步骤：准备在透明基板上至少形成遮光膜之罩幕基底的步骤；遮光部图案形成步骤，其系包括有在供形成遮光部图案的第1光阻膜上描绘第1描绘图案，经施行显影而形成第1光阻图案，在以该第1光阻图案为罩幕，对遮光膜施行蚀刻处理的步骤；在已形成遮光部图案的透明基板上，形成半透光膜的步骤；以及半透光部图案形成步骤，其系包括有为形成半透光部图案，而在半透光膜上所形成的第2光阻膜上描绘第2描绘图案，经施行显影而形成第2光阻图案，再以该第2光阻图案为罩幕，并对半透光膜施行蚀刻处理的步骤；而遮光部图案形成步骤中，于遮光部图案形成之同时，亦形成具有遮光部与透光部的所需标记图案，且于半透光部图案形成步骤中描绘第2描绘图案之前，设有使标记图案的透光部中不存在半透光膜的步骤。

主权项

1.一种灰阶罩幕之制造方法,系形成装置图案,其系 具有遮光部、透光部及半透光部;与标记图案,其 系使用于对位,如此所成的灰阶罩幕之制造方法, 其特征在于其包括有以下步骤: 准备步骤,其系在透明基板上至少形成有遮光膜之 罩幕基底; 遮光部图案形成步骤,其系包括有在供形成遮光部 图案的第1光阻膜上描绘第1描绘图案,经施行显影 而形成第1光阻图案,在以该第1光阻图案为罩幕,对 上述遮光膜施行蚀刻的步骤; 形成步骤,其系在已形成上述遮光部图案的透明基 板上,形成半透光膜;以及 半透光部图案形成步骤,其系包括有为形成半透光 部图案,而在上述半透光膜上所形成的第2光阻膜 上描绘第2描绘图案,经施行显影而形成第2光阻图 案,再以该第2光阻图案为罩幕,并对上述半透光膜 施行蚀刻的步骤; 而在上述遮光部图案形成步骤中,于遮光部图案形 成之同时,亦形成具有遮光部与透光部的所需标记 图案; 在上述半透光部图案形成步骤中描绘第2描绘图案 之前,设有使上述标记图案的透光部中不存在半透 光膜的步骤。 2.如申请专利范围第1项之灰阶罩幕之制造方法,其 中,使上述标记图案的透光部中不存在半透光膜的 步骤,系于形成上述半透光膜的步骤中,将上述半 透光膜至少形成于除上述标记图案透光部以外的 区域。 3.如申请专利范围第1项之灰阶罩幕之制造方法,其 中,使上述标记图案的透光部未存在半透光膜的步 骤,为在形成上述半透光膜之后,至少将上述标记 图案透光部的半透光膜去除之步骤。 4.如申请专利范围第1至3项中任一项之灰阶罩幕之 制造方法,其中,上述半透光部图案形成步骤中,于 描绘第2描绘图案之前,更进一步,依上述标记图案 的透光部中不存在上述第2光阻膜之方式,将上述 第2光阻膜至少涂布于除标记图案透光部以外的区 域,或者在上述第2光阻膜形成后,至少将标记图案 透光部的第2光阻膜去除。 5.一种灰阶罩幕之制造方法,系形成装置图案,其系 具有遮光部、透光部及半透光部;与标记图案,其 系使用于对位,如此所成的灰阶罩幕之制造方法, 其特征在于其包括有以下步骤: 准备步骤,其系在透明基板上至少形成有遮光膜之 罩幕基底; 遮光部图案形成步骤,其系包括有在供形成遮光部 图案的第1光阻膜上描绘第1描绘图案,经施行显影 而形成第1光阻图案,在以该第1光阻图案为罩幕,对 上述遮光膜施行蚀刻的步骤; 形成步骤,其系在已形成上述遮光部图案的透明基 板上,形成半透光膜;以及 半透光部图案形成步骤,其系包括有为形成半透光 部图案,而在上述半透光膜上所形成的第2光阻膜 上描绘第2描绘图案,经施行显影而形成第2光阻图 案,再以该第2光阻图案为罩幕,并对上述半透光膜 施行蚀刻的步骤; 而上述遮光部图案形成步骤中,于遮光部图案形成 之同时,亦形成具有遮光部与透光部的所需标记图 案; 在上述半透光部图案形成步骤中描绘第2描绘图案 之前,依上述标记图案的透光部中未存在上述第2 光阻膜之方式,将上述第2光阻膜至少涂布于除标 记图案透光部以外的区域,或者在上述第2光阻膜 形成后,至少将标记图案透光部的第2光阻膜去除 。 6.一种灰阶罩幕,系形成装置图案,其系具有遮光部 、透光部及半透光部;与标记图案,其系使用于对 位,如此所成的灰阶罩幕;其特征在于, 上述遮光部系由透明基板上所设置遮光膜、及在 其上面部分或全部积层的半透光膜所形成; 上述半透光部系由半透光膜形成;上述透光部系利 用有透明基板裸露出的部分形成;上述标记图案系 至少由遮光膜所构成的遮光部、及有透明基板裸 露出的透光部所形成。 7.一种灰阶罩幕基底,系在透明基板上所形成的遮 光膜图案上,形成有半透光膜的灰阶罩幕基底;其 特征在于, 上述遮光膜图案系含有使用于对位的标记图案,且 至少在除上述标记图案以外的区域中形成有半透 光膜。 图式简单说明: 图1(a)(1)~(4)为本发明实施形态1的灰阶罩幕之制造 步骤示意剖视图。 图1(b)(5)~(9)为本发明实施形态1的灰阶罩幕之制造 步骤(接着图1(a)所示制造步骤之后)示意剖视图。 图2(5)~(11)为本发明实施形态2的灰阶罩幕之制造步 骤示意剖视图。 图3(5)~(11)为本发明实施形态3的灰阶罩幕之制造步 骤示意剖视图。 图4(a)(1)~(3)为使用灰阶罩幕的TFT基板之制造步骤 概略剖视图。 图4(b)(1)~(3)为使用灰阶罩幕的TFT基板之制造步骤( 接着图4(a)所示制造步骤之后)概略剖视图。 图5为细微图案式灰阶罩幕一例的俯视图。 图6为半色调膜式灰阶罩幕图案一例的俯视图。 图7(1)、(2)为说明半色调膜式灰阶罩幕之制造方法 的罩幕图案俯视图。 图8(a)(1)~(4)为灰阶罩幕之制造步骤一例的示意剖 视图。 图8(b)(5)~(9)为灰阶罩幕之制造步骤一例(接着图8(a) 所示制造步骤之后)的示意剖视图。 图9(a)为灰阶罩幕20A俯视图,(b)为罩幕在非装置图 案区域中所形成标记图案(M)部分的剖视图,(c)为装 置图案(D)剖视图。