| 主权项 |
1.一种EUV用光阻组成物,其特征为含有(A1)下述式(I) 所示多元酚化合物(a)中,酚性羟基之一部份或全部 被酸解离性溶解抑制基所保护之保护体,与相对于 保护体(A1)100质量份为0.5至30质量份之(B)经由曝光 产生酸之酸产生剂成份, [式(I)中,R11至R17各自独立为碳数1至10之烷基或芳 香族烃基,其结构中可含有杂原子;g、j各自独立为 1以上之整数,k、q为0或1以上之整数,且g+j+k+q为5以 下;h为1以上之整数,l、m各自独立为0或1以上之整 数,且h+l+m为4以下;i为1以上之整数,n、o各自独立为 0或1以上之整数,且i+n+o为4以下;p为0或1;X为下述式( Ia)或(Ib), (式(Ia)中,R18、R19各自独立为碳数1至10之烷基或芳 香族烃基,其结构中可含有杂原子;r、y、z各自独 立为0或1以上之整数,且r+y+z为4以下)所示之基]。 2.如申请专利范围第1项之EUV用光阻组成物,其中前 述多元酚化合物(a)之分子量为300至2500。 3.如申请专利范围第1或2项之EUV用光阻组成物,其 中前述多元酚化合物(a)之分子量之分散度为1.5以 下。 4.如申请专利范围第1或2项之EUV用光阻组成物,其 尚含有含氮有机化合物(D)。 5.一种光阻图型之形成方法,其特征为将申请专利 范围第1或2项之EUV用光阻组成物涂布于基板上,经 预烧培,使用EUV进行选择性曝光后,施以PEB(曝光后 加热),经硷显影而形成光阻图型。 |
