图案形成方法及相位移遮罩的制造方法

摘要

一种相位移遮罩制造方法，包含下列步骤：在一透明基板上处理一光防护层成一预定光防护图案，于该预定光防护图案上形成抗蚀薄膜，基于写入资料执行写至该抗蚀薄摸上且显影该抗蚀薄膜，藉以形成一抗蚀图案；以及使用该已预定之光防护图案与该抗蚀图案作为一遮罩而蚀刻该基础层，藉以形成该等凹糟于该基础层中，其中该等凹糟可作为相位移部。该写入资料包括一部位，此处对应于互相邻近之至少二个凹糟之图案资料之部分，透过已预定光防护图案中之该光防护部，结合于一图案资料中。