光罩基板用光阻下层膜形成组成物,光罩基板及光罩

摘要

本发明系提供光罩基板及光罩制作步骤中所使用的光阻下层膜形成组成物，使用该等所制作的光罩基板及光罩。本发明之解决手段系，在基板上依序含有形成转印圆型的薄膜及化学增强型光阻膜的光罩基板中，为形成该转印图形的薄膜与光阻膜间的光阻下层膜所使用，具有含卤原子之重覆单位构造的高分子化合物及溶剂之光阻下层膜形成组成物。该高分子化合物至少含有10质量%的卤原子。