处理基板之方法,基板处理系统及基板处理装置

摘要

在一用于调整一图案影像在一与浸没曝光相容之曝光单元中之曝光位置的对准制程即刻之前或即刻之后，将一用于对准制程中虚设基板自该曝光单元传送至一基板处理装置中。在该基板处理装置中，一清洁处理单元清洁并乾燥该所接收之虚设基板。将经清洁之虚设基板自该基板处理装置传送回至该曝光单元。在该曝光单元中使用清洁虚设基板来执行对准制程可减少该曝光单元中之机构（诸如一基板平台）之污染。当该虚设基板为拒水性时，在该基板处理装置中之清洁将恢复该虚设基板之拒水性。