发明名称 电子装置及其制程
摘要 本发明揭示一种电子装置(10)可具有位于一第一半导体层(16)与一基底层(12)之间的一绝缘层(14)。相较于该第一半导体层,具有一不同组成物与应力之一第二半导体层(22)可位于该第一半导体层之至少一部分上。于一项具体实施例中,一第一电子组件(52或54)可包括一第一作用区域,其包括该第一与该第二半导体层的一第一部分。一第二电子组件(58或56)可包括一第二作用区域,其可包括该第一半导体层之一第二部分。可运用不同的制程来形成该电子装置。于另一具体实施例中,可执行退火一工件并可改变该等半导体层中至少一者的应力。于一不同的具体实施例中,可在形成该第二半导体层之前或之后执行退火该工件。
申请公布号 TW200802520 申请公布日期 2008.01.01
申请号 TW096107870 申请日期 2007.03.07
申请人 飞思卡尔半导体公司 发明人 马里安 G 沙达卡;凡卡 R 柯拉刚达;威廉 J 泰勒;维特 H 华泰尼恩
分类号 H01L21/00(2006.01) 主分类号 H01L21/00(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 美国