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发明名称
基板支撑构造,使用其之热处理装置,基板支撑构造所使用之第一片状物,基板支撑构造之制造方法,热处理装置及基板吸附方法
摘要
本发明系一种热处理装置,于热处理板之上表面设置有支撑片。于支撑片之上表面,形成有抵接支撑基板之凸起部、及与基板之周缘部抵接之边缘部。该支撑片系藉由蚀刻处理而形成,故凸起部之周围成为凹部,而不是如进行雷射加工般凸起部之周围形成开口。若藉由包括该等热处理板与支撑片之基板支撑构造,则可适当地支撑基板。
申请公布号
TW200802680
申请公布日期
2008.01.01
申请号
TW096108433
申请日期
2007.03.12
申请人
大斯克琳制造股份有限公司
发明人
福本靖博;雅夫;宫内博;谷口英行
分类号
H01L21/683(2006.01)
主分类号
H01L21/683(2006.01)
代理机构
代理人
赖经臣;宿希成
主权项
地址
日本
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