平面光源装置

摘要

本发明系有关一种平面光源装置，包括：可透光之第一基板及第二基板、复数个支撑部及放电腔体，以及复数个光学几何结构。当该放电腔体产生可见光射入该第一基板时，会使该支撑部上方第一基板之相对应位置上形成一遮蔽区。利用表面加工技术在第一基板上形成的复数个光学几何结构，因为是以该遮蔽区为中心沿前述遮蔽区之周围对应分布，所以使部份光线会藉由该光学几何结构的折射，导向前述遮蔽区射出，而使该平面光源装置各处均匀发光。