发明名称 磁性薄膜之改良
摘要 兹提供一种以离子轰击具薄膜磁性层夹设在一基材与一表层间的结构。离子轰击表层并移出表层原子使之植入磁性层。藉此改变、改质、或破坏磁性层部分区域的磁性。
申请公布号 TW200802329 申请公布日期 2008.01.01
申请号 TW095146933 申请日期 2006.12.14
申请人 英吉尼亚科技有限公司 发明人 考伯恩卢希尔;福克纳寇伦
分类号 G11B5/84(2006.01) 主分类号 G11B5/84(2006.01)
代理机构 代理人 蔡坤财;李世章
主权项
地址 英国