绝缘膜之损坏修复方法

摘要

本发明系提供一种绝缘膜之损坏修复方法，其系在因电浆处理而受到损坏之绝缘膜进行修复处理时，于铜配线层等之配线材料上不会残留修复剂，且可适应于乾式制程之量产性优之方法。本发明系使因电浆处理而受到损坏之绝缘膜，与由具有硝基、羰基之中至少一种以上以及烃基或氢基之1种以上的分子构造之化合物所构成之修复剂接触。