发明名称 |
一种用于半导体材料滚圆加工的滚磨液 |
摘要 |
一种用于半导体材料滚圆加工的滚磨液,其特征在于:由磨料、pH值调节剂、表面活性剂、螯合剂和去离子水组成,各种成分所占的重量百分比为:磨料5~20%;pH值调节剂20~40%;表面活性剂0.1~1%;螯合剂0.1~1%;去离子水为余量。本发明所提供的滚磨液的优点是:采用无金属离子的表面活性剂和螯合剂,减少了滚圆加工中金属离子沾污;具有高效复合性,高浓缩度和良好的润滑散热性能;用较强的化学腐蚀作用取代部分机械作用,减少应力、降低损伤,有利于设备防护和提高刀具寿命。本发明有效解决了在微电子工艺中普遍存在的金属杂质沾污、损伤层深、加工应力大,影响刀具寿命等技术问题。 |
申请公布号 |
CN101092551A |
申请公布日期 |
2007.12.26 |
申请号 |
CN200610014413.0 |
申请日期 |
2006.06.23 |
申请人 |
天津晶岭电子材料科技有限公司 |
发明人 |
仲跻和;刘玉岭 |
分类号 |
C09K3/14(2006.01);B24B5/22(2006.01) |
主分类号 |
C09K3/14(2006.01) |
代理机构 |
国嘉律师事务所 |
代理人 |
高美岭 |
主权项 |
1.一种用于半导体材料滚圆加工的滚磨液,其特征在于:由磨料、PH值调节剂、表面活性剂、螯合剂和去离子水组成,各种成分所占的重量百分比为:磨料5~20%;PH值调节剂20~40%;表面活性剂0.1~1%;螯合剂0.1~1%;去离子水为余量。 |
地址 |
300457天津市开发区微电子工业区中晓园2-B号 |