| 发明名称 | 超支化二阶非线性光学高分子及其制法和用途 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种新型超支化二阶非线性光学高分子，具有通式I所表示的结构式：式中R为硝基、砜基或其它吸电子基团，n＝10～120，以合成的二阶非线性光学发色团和三苯胺三醛为原料，反应制得该高分子化合物，本发明的高分子化合物具有良好的二阶非线性光学性能，可以作为二阶非线性光学材料在远程通讯、数据存储、数据转换、相位共轭等方面做出实际应用。 | ||
| 申请公布号 | CN100357334C | 申请公布日期 | 2007.12.26 |
| 申请号 | CN200510019998.0 | 申请日期 | 2005.12.13 |
| 申请人 | 武汉大学 | 发明人 | 李振;朱志超;秦金贵;李宗安;李倩倩 |
| 分类号 | C08G16/02(2006.01);G02F1/361(2006.01) | 主分类号 | C08G16/02(2006.01) |
| 代理机构 | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 | 代理人 | 王守仁 |
| 主权项 | 1、超支化二阶非线性光学高分子，具有通式I所表示的结构式：<img file="C2005100199980002C1.GIF" wi="800" he="1156" />式中R为硝基、砜基或其它吸电子基团；n＝10～120。 | ||
| 地址 | 430072湖北省武汉市武昌珞珈山 | ||