| 发明名称 | 半导体硅片的清洗装置 | ||
| 摘要 | 本实用新型提供一种半导体硅片的清洗装置，包括清洗水槽和承载硅片的托架，其中，该装置还包括一个机械悬臂，该机械悬臂上设有至少一个超声波振荡发生器，其中，该机械悬臂可以伸入清洗水槽内运动，设在机械臂上的超生波振荡发生器在运动过程中提供超生波能量。与现有技术相比，安装在机械悬臂上的超声波振荡器，可以随着机械悬臂的运动产生均匀的超生波能量，有效提高硅片表面超生波能量的均匀性，从而更好地去除硅片表面的微小颗粒，同时也减少由超生波能量不均造成硅片的损伤。本实用新型不仅可以有效提高生产效率，同时也不会带来过多额外的成本，并适用于业界广泛使用的清洗设备。 | ||
| 申请公布号 | CN200997395Y | 申请公布日期 | 2007.12.26 |
| 申请号 | CN200620049445.X | 申请日期 | 2006.12.22 |
| 申请人 | 上海集成电路研发中心有限公司 | 发明人 | 张晨骋 |
| 分类号 | H01L21/30(2006.01);B08B3/12(2006.01) | 主分类号 | H01L21/30(2006.01) |
| 代理机构 | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人 | 王洁 |
| 主权项 | 1、一种半导体硅片的清洗装置，包括清洗水槽和承载硅片的托架，其特征在于：该装置还包括一个机械悬臂，该机械悬臂上设有至少一个超声波振荡发生器，其中，该机械悬臂可以伸入清洗水槽内运动，设在机械臂上的超生波振荡发生器在运动过程中提供超生波能量。 | ||
| 地址 | 201203上海市张江高科技园区碧波路177号华虹科技园4楼B区 | ||