碳纳米管膜的生长装置及方法

摘要

本发明涉及一种碳纳米管膜的生长装置，其包括一反应室及一基底，该基底呈弯曲状设置于反应室内。本发明同时提供一种利用上述装置生长碳纳米管膜的方法。本发明所提供的碳纳米管膜的生长技术，与现有技术相比，采用弯曲状基底作为碳纳米管膜生长的载体，使得一定容量空间的反应室内可容纳更大面积的基底，从而实现碳纳米管膜在较小反应室内的大面积生长，这样可降低大面积的制备碳纳米管膜所需设备的成本。

主权项

1.一种碳纳米管膜的生长装置，其包括一反应室，一基底设置于该反应室内，其特征在于，该基底呈弯曲状设置于反应室内。