发明名称 等离子处理高阻隔膜工艺
摘要 本发明涉及等离子处理包装阻隔膜工艺。本发明可用PET、OPP、铝箔、PE薄膜作基材,第一步薄膜卷材上料并施加张力,第二步真空室抽真空,第三步设定并调整两种等离子惰性气体气源,第四步薄膜放卷进行等离子处理,第五步薄膜等离子沉积铝或二氧化硅并收卷即可。本发明只是将薄膜卷材上料并施加张力,真空室抽真空,设定并调整两种等离子气源,薄膜放卷进行等离子处理,薄膜等离子沉积并收卷即可完成,具有生产成本低、生产工艺简单、产品质量可靠的优点,可替代进口,节省大量外汇,经济效益也很显著。
申请公布号 CN101092684A 申请公布日期 2007.12.26
申请号 CN200610014376.3 申请日期 2006.06.20
申请人 天津市大阳工贸有限公司 发明人 田守文
分类号 C23C14/00(2006.01);C23C14/02(2006.01);C23C14/46(2006.01);C23C14/10(2006.01);C23C14/20(2006.01) 主分类号 C23C14/00(2006.01)
代理机构 代理人
主权项 1、等离子处理高阻隔膜工艺,其特征在于:可用PET、 OPP、铝箔、PE薄膜作基材,第一步薄膜卷材上料并施加张力,第二步真空室抽真空,第三步设定并调整两种等离子惰性气体气源,第四步薄膜放卷进行等离子处理,第五步薄膜等离子沉积铝或二氧化硅并收卷即可。
地址 301600天津市静海县静海经济开发区新区聚海道