发明名称 厚栅高压P型金属氧化物半导体管
摘要 本实用新型公开一种兼容性好且能够降低工艺成本的厚栅高压P型金属氧化物半导体管;包括:P型衬底,在P型衬底上设有N型埋层,在N型埋层上设有N型外延层,在N型外延层上设有N型阱和P型漂移区,在N型阱上设有P型源和N型接触孔,在P型漂移区内设有P型漏,在P型源、N型接触孔、N型阱、N型埋层、P型漂移区及P型漏的上方设有氧化层,在P型源及N型接触孔上连接有金属引线,在P型漏上连接有金属引线,在N型阱、P型漂移区、N型外延层与氧化层之间设有场氧化层,该场氧化层自P型源延续至P型漏,在氧化层内设有多晶硅栅且该多晶硅栅位于场氧化层的上方,在多晶硅栅上连接有金属引线。
申请公布号 CN200997402Y 申请公布日期 2007.12.26
申请号 CN200620165095.3 申请日期 2006.12.15
申请人 东南大学 发明人 孙伟锋;李海松;李杰;易扬波;徐申;夏晓娟;时龙兴
分类号 H01L29/78(2006.01);H01L27/04(2006.01) 主分类号 H01L29/78(2006.01)
代理机构 南京经纬专利商标代理有限公司 代理人 陆志斌
主权项 1、一种厚栅高压P型金属氧化物半导体管,包括:P型衬底(1),在P型衬底(1)上设有N型埋层(2),在N型埋层(2)上设有N型外延层(3),在N型外延层(3)上设有N型阱(4)和P型漂移区(5),在N型阱(4)上设有P型源(6)和N型接触孔(8),在P型漂移区(5)内设有P型漏(7),在P型源(6)、N型接触孔(8)、N型阱(4)、N型埋层(2)、P型漂移区(5)及P型漏(7)的上方设有氧化层(9),在P型源(6)及N型接触孔(8)上连接有金属引线(14),在P型漏(7)上连接有金属引线(12),其特征在于在N型阱(4)、P型漂移区(5)、N型外延层(3)与氧化层(9)之间设有场氧化层(10),该场氧化层(10)自P型源(6)延续至P型漏(7),在氧化层(9)内设有多晶硅栅(11)且该多晶硅栅(11)位于场氧化层(10)的上方,在多晶硅栅(11)上连接有金属引线(13)。
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