发明名称 MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号 KR100788539(B1) 申请公布日期 2007.12.26
申请号 KR20060097111 申请日期 2006.10.02
申请人 发明人
分类号 H01L21/20;H01L21/205 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
主权项
地址