发明名称 形成多层脱模衬垫的方法及用此方法形成的衬垫
摘要 本发明公开一种多层硅酮脱模表面,其包括衬背、衬背上面的支撑层和支撑层上面的硅酮层。多层脱模表面的各个层基本上是同时沉积的。例如,可以使用双模或使用幕涂技术进行沉积。
申请公布号 CN101091946A 申请公布日期 2007.12.26
申请号 CN200710138119.5 申请日期 2001.03.22
申请人 艾弗里丹尼逊公司 发明人 苏文晨;刘吉·萨尔托尔;蔡国立;弗兰克·严泽·石;丹尼尔·迈耶;史蒂芬·胡夫;伯特·波杰尔;郭洪杰;阿德·范桑顿;阿尔诺德·H·克特尼斯;威廉姆·克赖;阿德里安·休姆;亚历山大·扬森;罗伯特·乔尔迪克
分类号 B05D1/34(2006.01);B05C9/06(2006.01);B32B9/00(2006.01) 主分类号 B05D1/34(2006.01)
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 王旭
主权项 1.一种制备多层脱模衬垫的方法,其包括:提供双模,所述双模包括上游模唇、中唇和下游模唇、在上游模唇和中唇之间形成的第一间隙、以及在中唇和下游模唇之间形成的第二间隙;在衬背上从双模的第一间隙沉积支撑层;和基本上同时在支撑层上沉积脱模层,所述脱模层包括在支撑层上来自双模的第二间隙的硅酮,同时通过将分离线定位在双模中唇的下游拐角处而在分离线处控制脱模层和支撑层之间界面处的流动,控制所述脱模层和支撑层之间界面处的流动是为了获得支撑层中来自脱模层的硅酮区域,所述硅酮区域足以将所述脱模层结合到所述支撑层上,并且是为了在整个多层脱模衬垫上定义基本上连续的脱模表面。
地址 美国加利福尼亚州