发明名称 半导体装置及其制造方法
摘要 将多个半导体芯片(23)结合至基板(21)上所形成的粘接层(22)。然后,对多个半导体芯片(23)集中形成第一至第三绝缘膜(31、35、39)、第一和第二底垫金属层(33、37)、第一和第二重新布线(34、38),以及焊球(41)。在这种情况下,第一和第二底垫金属层(33、37)通过溅射法形成,且第一和第二重新布线(34、38)通过电镀法形成。随后,在位于相邻半导体芯片(23)之间的区域中切割由三个绝缘膜(39、35、31)、粘接层(22)和基板(21)组成的分层结构。
申请公布号 CN100358118C 申请公布日期 2007.12.26
申请号 CN03800128.4 申请日期 2003.02.03
申请人 卡西欧计算机株式会社 发明人 若林猛;三原一郎
分类号 H01L21/60(2006.01);H01L23/485(2006.01);H01L25/10(2006.01) 主分类号 H01L21/60(2006.01)
代理机构 永新专利商标代理有限公司 代理人 韩宏
主权项 1.一种半导体装置,包括:至少一个半导体芯片(23),在其上表面上形成有多个连接垫(25);第一绝缘膜(31),形成为覆盖所述半导体芯片(23)的所述上表面以及外围表面;第一重新布线(34),以电连接到所述半导体芯片(23)的所述连接垫(25)的方式形成在所述第一绝缘膜(31)的上表面上;第二绝缘膜(35),形成为覆盖所述第一绝缘膜(31)以及所述第一重新布线(34),并且具有将所述第一重新布线(34)的多个部分暴露出来的开口部分(36);柱状电极(61),形成在所述第一重新布线(34)中的暴露出来的部分上;以及第二重新布线(38),以电连接到所述柱状电极(61)的方式形成在所述第一绝缘膜(31)上,至少一些所述第二重新布线各自包括设置在所述第一绝缘膜(31)的一个区域中的衬垫部分,该区域位于所述半导体芯片之外。
地址 日本东京都