| 主权项 |
1.一种光线改向薄膜系统,其包括一背光,该背光具 有包括至少一输入边缘之一光出面板构件,该输入 边缘系用于接收自一光源之光,以及至少一用于射 出光之面板表面,以及一邻近于该面板表面之一光 改向薄膜,以用于接收由该面板表面所射出之光, 又该光改向薄膜具有良好定义外形之各别光学元 件之一图案,该光学元件相对于该光改向薄膜的宽 度和长度而言是很小,以将来自该面板表面所射出 之光予以再分布朝向一垂直该薄膜之方向上,且该 光学元件的尺寸或外形系被整修成将更多来自该 面板表面所射出之光予以再分布于一所需视角内 。 2.如申请专利范围第1项所述之光线改向薄膜系统, 其中该至少一些光学元件系以不同角度予以置向 。 3.如申请专利范围第1项所述之光线改向薄膜系统, 其中该至少一些光学元件系具有不同之斜面角。 4.如申请专利范围第1项所述之光线改向薄膜系统, 其中该至少一些光学元件系包括平面以及弯曲表 面之一组合。 5.如申请专利范围第4项所述之光线改向薄膜系统, 其中该平面表面面积与该弯曲表面面积之比値系 被选择以产生一所需视角。 6.如申请专利范围第1项所述之光线改向薄膜系统, 其中该至少一些光学元件系以不同角度予以置向 成跨过该薄膜,以将光再分布为沿着两不同轴。 7.如申请专利范围第1项所述之光线改向薄膜系统, 其中该至少一些光学元件系相互重叠、相交或联 锁。 8.如申请专利范围第1项所述之光线改向薄膜系统, 其中该面板构件具有各别光学畸形器之一图案,且 该畸形器产生一在该面板表面之不同位置处而改 变之光线输出分布。 9.如申请专利范围第8项所述之光线改向薄膜系统, 其中该面板构件之至少一些畸形器具有一倾斜表 面,且该斜表面系被置向成面对跨过该面板构件之 输入边缘之一光学耦合面积。 10.如申请专利范围第9项所述之光线改向薄膜系统 ,其中该面板构件之至少一些畸形器具有至少一额 外表面,以用于将撞击该额外表面之光以不同方向 予以反射或折射,而散布该光于跨过该面板表面, 以产生一由该面板表面所射出之光的更均匀分布 。 11.如申请专利范围第10项所述之光线改向薄膜系 统,其中该倾斜表面系平面的并且该额外表面系被 弯曲。 12.如申请专利范围第1项所述之光线改向薄膜系统 ,其更进而包括至少一光学耦合至该输入边缘之光 源,且该面板构件之畸形器系被安装成列,该列系 相对于该光源被光学耦合之输入边缘之一面积而 辐射状地延伸。 13.一种光线改向薄膜系统,其包括一具有面板表面 之背光,且该面板表面具有一在该面板表面上之不 同位置而改变之光线输出分布,以及一邻近于该面 板表面之光改向薄膜,且该光改向薄膜具有一在该 薄膜上之不同位置而改变之光学元件的图案,以将 来自在该面板表面上之不同位置之光线输出分布 予以再分布至朝向一垂直该薄膜之方向,该光学元 件相对于该光改向薄膜的宽度和长度而言是很小 。 14.如申请专利范围第13项所述之光线改向薄膜系 统,其中至少一些该光学元件系改变于下述特性中 之至少一者:角度、旋转、密度、位置、置向、高 度或深度、外形和尺寸。 15.如申请专利范围第13项所述之光线改向薄膜系 统,其更进而包括一邻近该薄膜之液晶显示器,且 在该薄膜上之光学元件的图案改变造成自该面板 表面之光线输出分布的角度上之一改变,而使该光 线输出分布更可接受地行穿过该液晶显示器。 16.如申请专利范围第13项所述之光线改向薄膜系 统,其中至少一些光学元件具有至少两不同外形的 表面周边。 17.如申请专利范围第16项所述之光线改向薄膜系 统,其中该一个不同外形的表面系平面的,而另一 不同外形的表面系被弯曲。 18.如申请专利范围第13项所述之光线改向薄膜系 统,其中该至少一些光学元件系相互重叠、相交或 联锁。 19.如申请专利范围第13项所述之光线改向薄膜系 统,其中该至少一些光学元件系以不同角度被置向 以用于将光改向为沿着两不同轴。 20.如申请专利范围第13项所述之光线改向薄膜系 统,其中该光学元件系被安装成一图案,且该图案 系被整修成将接收来自一个冷阴极萤光灯之光的 背光光线输出分布予以再分布,而朝向至一垂直于 该薄膜之方向上。 21.如申请专利范围第13项所述之光线改向薄膜系 统,其中该光学元件系被安装成一图案,且该图案 系被整修成将接收来自两个或更多个冷阴极萤光 灯之光的背光光线输出分布予以再分布,而朝向至 一垂直于该薄膜之方向上。 22.如申请专利范围第13项所述之光线改向薄膜系 统,其中该光学元件系被安装成一图案,且该图案 系被整修成将接收来自单一发光二极体之光的背 光光线输出分布予以再分布。 23.如申请专利范围第13项所述之光线改向薄膜系 统,其中该光学元件系被安装成一图案,且该图案 系被整修成将接收来自复数个发光二极体之光的 背光光线输出分布予以再分布。 24.如申请专利范围第13项所述之光线改向薄膜系 统,其中该光学元件系被安装成一图案,且该图案 系被整修成将接收来自周边照光的背光光线输出 分布予以再分布。 25.如申请专利范围第13项所述之光线改向薄膜系 统,其中该光学元件系被安装成一辐射状图案,且 该图案系被整修成将角落照光之背光光线输出分 布予以再分布。 26.如申请专利范围第13项所述之光线改向薄膜系 统,其中该光学元件系被安装成一辐射状图案,且 该图案系被整修成将单一聚焦光源所照光之背光 光线输出分布予以再分布。 27.如申请专利范围第26项所述之光线改向薄膜系 统,其中该光源系一发光二极体。 图式简单说明: 图1系根据本发明之光改向薄膜系统的一形式之一 概略侧面图; 图2系图1所示之背光以及光改向薄膜系统的一部 份之一部份放大侧面图; 图3以及图4系根据本发明之光线改向薄膜系统的 其他形式之概略侧面图; 图5-20系概略立体或是平面图,其揭示在本发明之 光线改向薄膜系统上之各别光学元件的不同图案; 图5a-5n系在该光改向薄膜系统上之各别光学元件 可能采用不同几何形状之概略立体图; 图21系在一面对薄膜角落之弯曲图案中具有延伸 过该薄膜之光学凹槽之光线改向薄膜之概略立体 图; 图22系在一面对薄膜边缘之中点处之具有延伸过 该薄膜之光学凹槽之光线改向薄膜之俯视平面图, 且该薄膜在离该边缘的距离愈增加则其曲率愈减 少; 图23系当由图22所示之光线改向薄膜之左终端视之 终端平面图; 图24系图22所示之光线改向薄膜的侧面图; 图25以及26系一背景光/光发射面板组件之一表面 积的部份放大平面图,且该图揭示形成在该背光之 一表面上之各种形式光学畸形器; 图27以及28系分别穿过图25以及26所示光学畸形器 之一个的放大纵剖面图; 图29以及30系穿过形成在该背光之一表面上之其他 光学畸形器的放大纵剖面图; 图31-39包含有其他定义良好之各别光学畸形器的 各种图案之背光表面之放大概略立体图; 图40系穿过形成在该背光之一表面上之另一型光 学畸形器的放大纵剖面图; 图41以及42系包含有在形状上类似于其他揭示在图 37以及38且以复数个直线行沿着表面长度方向之光 学畸形器之背光表面之放大概略俯视图; 图43以及44系包含有在形状上类似于其他揭示在图 37以及38且以交错行沿着表面长度方向之光学畸形 器之背光表面之放大概略俯视图; 图45以及46系包含有在表面上之一随机或是可变图 案之背光表面之放大概略俯视图; 图47系一背景表面之放大概略俯视图,其揭示在当 该畸形器离开光输入面之距离增加或光强度沿着 表面长度方向增加时,则光学畸形器之尺寸增加; 图48以及49系概略俯视图,其揭示沿着一背景光表 面之长度及宽度方向之光学畸形器的不同角度方 向; 图50以及51系概略放大立体图,其揭示自一焦距化 光源所射出的示范性光线系如何地被一背景光之 良好定义形状之不同各别光学畸形器所反射或是 折射。 |
