发明名称 氢离子束应用于液晶分子配向之方法
摘要 本发明系为一种氢离子束应用于液晶分子配向之方法,系用以解决知利用氩离子配向时所造成的物理性破坏,及劣化配向膜表面。本发明系直接将一含氢离子束撞击至配向膜,降低物理性的破坏并与配向膜表面进行化学反应,佳化配向性质。
申请公布号 TWI291584 申请公布日期 2007.12.21
申请号 TW094122466 申请日期 2005.07.01
申请人 中国台湾台湾薄膜电晶体液晶显示器产业协会;中华映管股份有限公司 CHUNGHWA PICTURE TUBES, LTD. 桃园县八德市和平路1127号;友达光电股份有限公司 AU OPTRONICS CORP. 新竹市新竹科学园区力行二路1号;广辉电子股份有限公司 QUANTA DISPLAY INC. 桃园县龟山乡华亚二路189号;瀚宇彩晶股份有限公司 HANNSTAR DISPLAY CORP. 台北市松山区民生东路3段115号5楼;奇美电子股份有限公司 CHI MEI OPTOELECTRONICS CORP. 台南县新市乡台南科学工业园区奇业路1号;财团法人工业技术研究院 INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCHINSTITUTE 新竹县竹东镇中兴路4段195号;统宝光电股份有限公司 TOPPOLY OPTOELECTRONICS CORP. 苗栗县竹南镇科学园区科中路12号 发明人 吴邦豪;萧景文;陈佑民;江欣峻;吴仲文
分类号 G02F1/1337(2006.01) 主分类号 G02F1/1337(2006.01)
代理机构 代理人 谢宗颖 台北市大安区敦化南路2段71号18楼;王云平 台北市大安区敦化南路2段71号18楼
主权项 1.一种氢离子束应用于液晶分子配向之方法,系包 括下列步骤: 提供一配向薄膜; 产生一含氢之离子束;及 对准该配向薄膜且以该含氢之离子束冲击该配向 薄膜。 2.如申请专利范围第1项所述之氢离子束应用于液 晶分子配向之方法,其中该配向薄膜材料系为有机 材料或无机材料。 3.如申请专利范围第2项所述之氢离子束应用于液 晶分子配向之方法,其中该有机材料系为聚亚醯胺 膜。 4.如申请专利范围第2项所述之氢离子束应用于液 晶分子配向之方法,其中该无机材料系为含碳之无 机膜。 5.如申请专利范围第1项所述之氢离子束应用于液 晶分子配向之方法,其中该离子束内所含之氢离子 成分流量系为其他离子成分流量总和的100倍以上 。 6.如申请专利范围第1项所述之氢离子束应用于液 晶分子配向之方法,其中该产生一含氢之离子束之 步骤更包含决定一可调整入射角度、离子能量和 剂量之离子束。 7.一种氢离子束应用于液晶分子配向之方法,系包 括下列步骤: 提供一配向薄膜; 产生一含氢之离子束; 决定一可调整入射角度、离子能量和剂量之离子 束;及 对准该配向薄膜且以该含氢之离子束冲击该配向 薄膜。 8.如申请专利范围第7项所述之氢离子束应用于液 晶分子配向之方法,其中该配向薄膜材料系为有机 材料或无机材料。 9.如申请专利范围第8项所述之氢离子束应用于液 晶分子配向之方法,其中该有机材料系为聚亚醯胺 膜。 10.如申请专利范围第8项所述之氢离子束应用于液 晶分子配向之方法,其中该无机材料系为含碳之无 机膜。 11.如申请专利范围第7项所述之氢离子束应用于液 晶分子配向之方法,其中该离子束内所含之氢离子 成分流量系为其他离子成分流量总和的100倍以上 。 图式简单说明: 第一图系为习知之氩离子束冲击配向层之示意图; 第二图系为本发明之氢离子束冲击配向层之示意 图;及 第三图系为本发明第一实施例之氢离子束应用于 液晶分子配向之方法流程图;及 第四图系为本发明实施例之氢离子束与氩离子束 对液晶盒电特性之比较示意图。
地址 新竹县竹东镇中兴路4段195号15馆282室