| 主权项 |
1.一种热传管之结构,系供吸附式制冷装置使用,该 吸附式制冷装置具有一真空舱体,于该真空舱体内 设有一吸附床热交换器及一蒸发/冷凝热交换器, 该蒸发/冷凝热交换器设有至少一层以上之热传管 ,且该热传管连通一导入管及一导出管;及该热传 管之外管壁具有复数之微型鳍状结构,该微型鳍状 结构系由一凸出结构,以及设置于凸出结构顶部且 宽幅大于凸出结构之檐状结构构成者。 2.如申请专利范围第1项所述之热传管之结构,其中 ,该凸出结构之延伸方向与热传管之外管壁概成直 交或具有一斜度,该檐状结构之延伸方向与凸出结 构概成直交或具有一斜度,藉由该檐状结构及凸出 结构可与热传管外管壁之间形成一空间者。 3.如申请专利范围第1项所述之热传管之结构,其中 ,该檐状结构具有一背离热传管外管壁之凹弧部者 。 4.如申请专利范围第1项所述之热传管之结构,其中 ,该热传管系由一外管与一内管轴向套设而成之双 层式套管,该凸出结构与檐状结构系设置于外管之 外管壁者。 5.如申请专利范围第1项所述之热传管之结构,其中 ,该热传管系设置有至少两层,该位于上层之热传 管系以冷凝用管材构成,该位于下层之热传管具有 可供冷媒储存之贮槽者。 6.如申请专利范围第5项所述之热传管之结构,其中 ,系于下层之热传管底部结合一碟状鳍片,由该碟 状鳍片形成供冷媒储存之贮槽者。 7.如申请专利范围第5项所述之热传管之结构,其中 ,系于下层之热传管两侧各结合一碟状鳍片,由该 两碟状鳍片形成供冷媒储存之贮槽者。 8.如申请专利范围第5项所述之热传管之结构,其中 ,系于下层之热传管下方设有一呈波浪状之承板, 各热传管系分别位于承板之波浪状凹部,利用该承 板之各波浪状凹部形成承装冷媒之贮槽者。 9.如申请专利范围第5项所述之热传管之结构,其中 ,该热传管可为一扁平管者。 10.如申请专利范围第5项所述之热传管之结构,其 中,该位于下层之热传管系设置有至少两层,且各 层热传管系以上、下参差交错排列之型态配置者 。 11.如申请专利范围第10项所述之热传管之结构,其 中,该位于下层之热传管之最底层热传管系邻靠于 真空舱体底部,并且浸泡于真空舱体底部之液态冷 媒中者。 12.如申请专利范围第11项所述之热传管之结构,其 中,该真空舱体底部设有一具系列贮槽之垫块,该 垫块系浸泡于真空舱体底部之液态冷媒中,而邻靠 于真空舱体底部之热传管系设置于相对应之贮槽 中者。 13.一种热传管之制造方法,该热传管系供吸附式制 冷装置使用,该吸附式制冷装置具有一真空舱体, 于该真空舱体内设有一吸附床热交换器及一蒸发/ 冷凝热交换器,该蒸发/冷凝热交换器设有至少一 层以上之热传管,且该热传管连通一导入管及一导 出管,其步骤包括: (a)于热传管之外管壁成型凸出结构; (b)冲压凸出结构外缘,使形成宽幅大于凸出结构之 檐状结构。 14.如申请专利范围第13项所述之热传管之制造方 法,其中,该凸出结构系为环绕热传管外管壁之凸 环结构者。 15.如申请专利范围第13项所述之热传管之制造方 法,其中,该凸出结构系为螺旋环绕热传管外管壁 之凸螺旋结构者。 16.如申请专利范围第13项所述之热传管之制造方 法,其中,该凸出结构之延伸方向与热传管之外管 壁概成直交或具有一斜度,该檐状结构之延伸方向 与凸出结构概成直交或具有一斜度,藉由该檐状结 构及凸出结构可与热传管外管壁之间形成一空间 者。 17.如申请专利范围第13项所述之热传管之制造方 法,其中,该檐状结构具有一背离热传管外管壁之 凹弧部者。 18.如申请专利范围第13项所述之热传管之制造方 法,其中,该热传管系由一外管与一内管轴向套设 而成之双层式套管,该凸出结构与檐状结构系设置 于外管之外管壁者。 19.如申请专利范围第13项所述之热传管之制造方 法,其中,该热传管系设置有至少两层,该位于上层 之热传管系以冷凝用管材构成,该位于下层之热传 管具有可供冷媒储存之贮槽者。 20.如申请专利范围第19项所述之热传管之制造方 法,其中,系于下层之热传管底部结合一碟状鳍片, 由该碟状鳍片形成供冷媒储存之贮槽者。 21.如申请专利范围第19项所述之热传管之制造方 法,其中,系于下层之热传管两侧各结合一碟状鳍 片,由该两碟状鳍片形成供冷媒储存之贮槽者。 22.如申请专利范围第19项所述之热传管之制造方 法,其中,系于下层之热传管下方设有一呈波浪状 之承板,各热传管系分别位于承板之波浪状凹部, 利用该承板之各波浪状凹部形成承装冷媒之贮槽 者。 23.如申请专利范围第19项所述之热传管之制造方 法,其中,该热传管可为一扁平管者。 24.如申请专利范围第19项所述之热传管之制造方 法,其中,该位于下层之热传管系设置有至少两层, 且各层热传管系以上、下参差交错排列之型态配 置者。 25.如申请专利范围第24项所述之热传管之制造方 法,其中,该位于下层之热传管之最底层热传管系 邻靠于真空舱体底部,并且浸泡于真空舱体底部之 液态冷媒中者。 26.如申请专利范围第25项所述之热传管之制造方 法,其中,该真空舱体底部设有一具系列贮槽之垫 块,该垫块系浸泡于真空舱体底部之液态冷媒中, 而邻靠于真空舱体底部之热传管系设置于相对应 之贮槽中者。 27.一种吸附式制冷装置之蒸发/冷凝热交换器,该 吸附式制冷装置具有一真空舱体,于该真空舱体内 设有一吸附床热交换器及一蒸发/冷凝热交换器, 该蒸发/冷凝热交换器设有上、中、下三层热传管 ,且该热传管连通一导入管及一导出管,其中: 该热传管之外管壁具有复数之微型鳍状结构,该微 型鳍状结构系由一凸出结构,以及设置于凸出结构 顶部且宽幅大于凸出结构之檐状结构构成; 位于上层之热传管系以冷凝用之管材构成; 位于中层之热传管具有可供冷媒储存之贮槽; 位于下层之热传管系邻靠于真空舱体底部,并且浸 泡于真空舱体底部之液态冷媒中者。 28.如申请专利范围第27项所述之吸附式制冷装置 之蒸发/冷凝热交换器,其中,位于中层之各热传管 系以上、下参差交错排列之型态配置者。 29.如申请专利范围第27项所述之吸附式制冷装置 之蒸发/冷凝热交换器,其中,该凸出结构之延伸方 向与热传管之外管壁概成直交或具有一斜度,该檐 状结构之延伸方向与凸出结构概成直交或具有一 斜度,藉由该檐状结构及凸出结构可与热传管外管 壁之间形成一空间者。 30.如申请专利范围第27项所述之吸附式制冷装置 之蒸发/冷凝热交换器,其中,该檐状结构具有一背 离热传管外管壁之凹弧部者。 31.如申请专利范围第27项所述之吸附式制冷装置 之蒸发/冷凝热交换器,其中,该热传管系由一外管 与一内管轴向套设而成之双层式套管,该凸出结构 与檐状结构系设置于外管之外管壁者。 32.如申请专利范围第27项所述之吸附式制冷装置 之蒸发/冷凝热交换器,其中,系于中层之热传管底 部结合一碟状鳍片,由该碟状鳍片形成供冷媒储存 之贮槽者。 33.如申请专利范围第27项所述之吸附式制冷装置 之蒸发/冷凝热交换器,其中,系于中层之热传管两 侧各结合一碟状鳍片,由该两碟状鳍片形成供冷媒 储存之贮槽者。 34.如申请专利范围第27项所述之吸附式制冷装置 之蒸发/冷凝热交换器,系于中层之热传管下方设 有一呈波浪状之承板,各热传管系分别位于承板之 波浪状凹部,利用该承板之各波浪状凹部形成承装 冷媒之贮槽者。 35.如申请专利范围第27项所述之吸附式制冷装置 之蒸发/冷凝热交换器,其中,该热传管可为一扁平 管者。 36.如申请专利范围第27项所述之吸附式制冷装置 之蒸发/冷凝热交换器,其中,该真空舱体底部设有 一具系列贮槽之垫块,该垫块系浸泡于真空舱体底 部之液态冷媒中,而邻靠于真空舱体底部之热传管 系设置于垫块之相对应之贮槽中者。 图式简单说明: 第一图系习知吸附式制冷系统之结构配置示意图 。 第二图系本发明应用于吸附式制冷系统之结构配 置示意图。 第三图系本发明之热传管之细部结构示意图。 第四A图及第四B图系本发明于热传管上成型微型 鳍状结构之步骤示意图。 第五A图至第五C图系本发明之微型鳍状结构之不 同较佳实施例图。 第五D图系本发明之热传管另一较佳实施例之结构 示意图。 第六图及第七图系本发明应用于蒸发/冷凝热交换 器之不同较佳实施例之结构配置图。 第八图及第九图系本发明搭配碟状鳍片及垫块之 结构配置图。 第十图系扁平状之热传管搭配碟状鳍片之结构示 意图。 |
